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高純氣體真空鍍膜中的應用
1.切削刀具類 細微納米級顆粒的PVD涂層顯微結構兼?zhèn)涓唔g性、高硬度、高抗氧化性的特性，并可實現加工過程中無摩擦排屑的極光滑表面。在涂層沉積過程中，做到涂層與產品基體的超強附著，同時可以有效的控制涂層的沉積厚度(單邊0.5微米─5微米)，針對不同的產品類型涂層處理。PVD后的刀具也具備了CVD后的熱穩(wěn)定性，從而實現刀具(拉刀、銑刀、絲攻、鉆頭、刀粒、分中棒等)的強力高效加工，使其具備卓越的使用性能。 2.模具類、模具配件及更多 +
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甲烷、丙烯、丙烷等氣體氣相反應和表面反應的相互影響
參與熱解碳化學氣相沉積的烴類氣體主要有甲烷、乙烯、丙烯、丙烷等。純度要求一般大于99.9%。烴類氣體在氣相熱解條件下發(fā)生化學反應，生成芳香烴和聚合芳香烴，隨著生成物相對分子質量的逐漸增大，最終將導致固體碳顆粒的生成，并在顆粒表面發(fā)生復雜的表面化學反應。 如果甲烷等烴類氣體熱解過程中存在外來的固體表面，甲烷等氣體分子將碰撞，繼而產生表面吸附，使體系能量降低。氣相反應中的分子和生產的活性基團因此將不可避免地參與表面反應，在加快甲烷等氣體分子裂解的同時更多 +
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5G時代，鍺烷市場需求凸顯
鍺烷（GeH4）和乙鍺烷（Ge2H6）均為電子工業(yè)用的關鍵氣體材料，對整個行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展起著重要的支撐配套作用。鍺烷主要用于半導體制程中在硅片上沉積SiGe（硅鍺）層。硅鍺材料的載流子遷移率高、能帶寬度隨Ge的組分變化而連續(xù)可調，因此,硅鍺材料在微電子和光電子方面有重大的應用價值。5G時代，光通信芯片崛起，光通信傳輸芯片主流采用SiGe工藝來滿足其對高性能和低功耗的要求。國家發(fā)改委《增強制造業(yè)核心競爭力三年行動計劃(2018-2020年)》曾對鍺烷純度和裝置規(guī)模就提出過具體要求。鍺烷也用于紅外光學材料、航天器空間更多 +
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純凈無毒的SF6卻能致死 —— SF6檢漏四種方法
純凈的SF6氣體雖然無毒，但在工作場所要防止SF6氣體的濃度上升到缺氧的水平。SF6氣體的密度大約是空氣的五倍、SF6氣體如有泄漏必將沉積于低洼處。濃度過大會出現使人窒息的危險，所以在設計戶內通風裝置時一定要考慮到這一情況。 純凈的SF6氣體雖然無毒卻能致死，原因是在電弧作用下SF6的分解物如SF4，S2F2，SF2，SOF2，SO2F2，SOF4和HF等，它們都有強烈的腐蝕性和毒性。因此在電力系統GIS等應用SF6的工作場所，一定要加裝SF6氣體泄漏監(jiān)更多 +
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電子特氣最全種類大全|紐瑞德電子特氣
電子特種氣體是特種氣體的一個重要分支，是集成電路（IC）、顯示面板（LCD、OLED）、光伏能源、光纖光纜等電子工業(yè)生產中不可或缺的關鍵性原材料，廣泛應用于薄膜、光刻、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝，其質量對電子元器件的性能有重要影響。 氣體的產品種類豐富，電子元器件在其生產過程中對氣體產品存在多樣化需求。就集成電路制造過程中需要的高純特種氣體和混合氣體的種類超過 50 種，且每一種工藝步驟中都會用到特定的氣體。此外，在顯示面板、LED、太陽能電池片等器件的制造中的不同工藝環(huán)節(jié)均更多 +
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氪氣、氬氣等高純氣體在真空涂層技術上的應用
真空涂層技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現將CVD(化學氣相沉積)技術應用于硬質合金刀具上。到了上世紀七十年代末，開始出現 PVD(物理氣相沉積) 技術，為真空涂層開創(chuàng)了新天地，之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術得到迅猛發(fā)展。真空涂層技術發(fā)展到了今天還出現了PCVD(物理化學氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。隨著技術的不斷發(fā)展，對工藝氣體如氪氣、氬氣、氫氣等氣體的需求不斷增大。 現代涂層設備(均勻加熱技術、溫度測量技術、非平更多 +
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氨氣氣體，毒性有哪些毒性？
氨氣是一種無色而具有強烈刺激性臭味的氣體，比空氣要輕。這種氣體通常來自建筑施工中使用的混凝土外加劑，和室內裝飾材料中的添加劑和增白劑。長期接觸氨氣，部分人可能會出現皮膚色素沉積或手指潰瘍等癥狀；氨氣被呼入肺后容易通過肺泡進入血液，與血紅蛋白結合，破壞運氧功能。短期內吸入大量氨氣后可出現流淚、咽痛、聲音嘶啞、咳嗽、痰帶血絲、胸悶、呼吸困難，可伴有頭暈、頭痛、惡心、嘔吐、乏力等，嚴重者可發(fā)生肺水腫、成人呼吸窘迫綜合癥，同時可能發(fā)生呼吸道刺激癥狀。更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-更多 +
