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電子氣體的管理
在制造集成電路的過程中，超過30種不同的工藝氣體被用于蝕刻\沉積\氧化\摻雜，和惰性保護的應用。????氬通常以低溫液體交付，并用于為金屬的濺射沉積提供惰性環(huán)境，因為氮氣的反應性高而導致形成金屬氮化物?！?/div> 更多 +-
高純氮氣的消防應急措施
量隔離泄漏源。避免在與火 源碰撞時，在淺層區(qū)域沉積可能導致爆炸的氣體。用排煙風機將泄漏的廢氣送入開放空間。更多 +
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充SF6氣體時應注意的事項
充SF6氣體時應注意的事項 SF6有必要的設備來生產有毒物質。如果SF6氣體含有超過特定量的水分，當濕度變化時，它可以集中在固體絕緣表面，并將表面水分轉化為表面。SF6。在電弧和電暈活動過程中，氣體沉積產生的低氟結合氣體在沒有水分子的外部條件下不會產生SO2、HF和其他有害物質，從而避免它們引起的設備腐蝕。因此，當SF6供應充滿汽油時，應采取嚴格措施防止水進入。 （1） 工作開始前，應測量該區(qū)域周圍空氣的相對濕度80%（即在相同溫度下，空氣中的水入口與測 量的水入口的百分比更多 +
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氦質譜檢漏儀半導體設備及材料檢漏應用
真空設備越來越多地應用于半導體行業(yè)，如真空分離器（蒸發(fā)、濺射）、干式噴砂設備、熱處理設備（合金爐、退火爐）、摻雜設備（離子注入機等），這些設備將作為半導體技術發(fā)展不可或缺的條件發(fā)揮越來越重要的作用。 真空設備越來越多地用于半導體行業(yè)，如真空沉積設備（蒸發(fā)、濺射）、干式噴砂設備（ICP、RIE、PECVD）、熱處理設備（合金爐、退火爐）、摻雜設備（離子注入機等），這將作為半導體技術發(fā)展的先決條件發(fā)揮越來越重要的作用。氦質譜泄漏檢測器今天被廣泛用于半導體系統中的泄漏檢測。 半導體器件和材料泄漏檢測的原因：更多 +
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含氟蝕刻氣體的種類和介紹
目前，氟化蝕刻氣體是一種隱形的“刀具”，廣泛應用于半導體或LCD前端工藝，甚至可以在微米厚的薄層上切割納米級凹槽。你能仔細想想這幅畫嗎？ 那么，氟化蝕刻氣體是什么呢？它們是如何工作的？ 用于蝕刻的氣體稱為蝕刻氣體，通常是氟化物氣體，如四氟、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 含氟蝕刻氣體是電子氣體的一個重要分支，是制造超大集成電路、平面顯示器、太陽能電池和玻璃纖維等電子工業(yè)不可或缺的原材料。它們被廣泛用于半導體工藝，如薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積和擴散。國家發(fā)展改革委《產業(yè)結構調更多 +
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電子特種氣體是特種氣體的一個重要分支
特種電子氣體（以下簡稱特種電子氣體）是特種氣體的一個重要分支，是集成電路（IC）、平面顯示設備（LCD、LED、OLED）、太陽能電池等電子工業(yè)生產不可或缺的原材料。 電子氣體廣泛應用于電子產品的工藝，如離子注入、蝕刻、氣相沉積、摻雜等。電子半導體器件的性能與電子氣體的質量密切相關。 產業(yè)鏈上下游 工業(yè)氣體工業(yè)的原料是空氣、工業(yè)廢氣、基礎化學原料等。其上游產業(yè)為氣體分離和清潔設備、基礎化學原料工業(yè)、壓力容器設備等。下游領域包括集成電路、液晶面板、LED、光纖通信、光伏、醫(yī)療健康、節(jié)能環(huán)保、新材料、更多 +
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高純氨氣制取的四項關鍵技術
高純度氨產品是光電子和微電子技術不可或缺的支撐材料。它廣泛應用于半導體照明、平板顯示器、太陽能電池和大型集成電路的制造。高純度氨的質量直接影響材料的光學和電學性能，甚至影響設備的使用壽命。國內外都有巨大的潛在市場。隨著國內半導體工業(yè)的發(fā)展，對高純度氨的需求快速增長，高純度電子氣體的國產化是必然的發(fā)展趨勢。 高純度氨也是通過有機金屬化學氣相沉積（MOCVD）技術生產第三代復合半導體材料氮化鎵（GaN）的重要支撐材料。MOCVD生產氮化鎵（GaN）要求所用的氨必須是高純度和超清潔的，純度為7N（99.99更多 +
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高純氮氣的消防應急措施
氮氣凈化方法主要有吸附、變壓吸附、膜分離等。在生產中，黑色鋼瓶通常用于盛裝氮氣。 意圖 它被用作集成電路、半導體和電真空設備制造中的保護氣體和載氣，用于化學氣相沉積的載氣，液體擴散源的載氣以及高溫擴散爐中設備的保護氣體。在外延、光刻、純化和蒸發(fā)過程中，高純度氮氣用作置換、干燥、儲存和運輸的氣體。在生產電影鏡頭時，氮的純度必須高于99.99%。在航空航天技術中，液態(tài)氫填充系統必須首先由高純度氮氣代替，然后由高純度氦氣代替。 防火措施 迅速將受污染區(qū)域內的人員疏散到迎風的現場，將其隔離并嚴格限制更多 +
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