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四氯化硅 純度6N/8N/10N
中文名：四氯化硅更多 +
英文名：silicon tetrachloride
化學式：SiCl4
純度：99.9999%（6N），99.999999(8N)
99.99999999（10N）
包裝：20T標準集裝箱罐
275Kg包裝罐，100Kg 包裝罐
各種純度，各種規(guī)格均有售，咨詢客服吧！
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四氯化硅生產(chǎn)廠家
武漢紐瑞德特種氣體有限公司是一家具有28年行業(yè)經(jīng)驗的專業(yè)廠家，專注于四氯化硅等特種氣體的生產(chǎn)與運營，憑借與頂尖高校的緊密合作，展現(xiàn)出強大的技術實力和行業(yè)競爭力。更多 +
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四氯化硅產(chǎn)業(yè)：市場前景看好
四氯化硅是硅合成和多晶硅生產(chǎn)的重要原料，具有廣泛應用前景和良好市場發(fā)展趨勢。光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展推動了四氯化硅需求的增加，而工業(yè)硅作為其重要原料之一，也在產(chǎn)能和產(chǎn)量上持續(xù)增長。武漢紐瑞德特種氣體專業(yè)提供四氯化硅等氣體產(chǎn)品，為相關產(chǎn)業(yè)提供保障。更多 +
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硅烷VS四氯化硅：有機與無機的博弈
硅烷和四氯化硅都是含有硅的化合物，但是它們是不同的化合物，有著不同的用途和性質(zhì)。本文探討了硅烷和四氯化硅之間的區(qū)別、用途、性質(zhì)等方面，讓讀者更加了解這兩種化合物。更多 +
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四氯化硅和四氯化碳：性質(zhì)與用途差異解析
四氯化硅和四氯化碳是兩種常見化合物，在化學性質(zhì)和用途上存在一些相似之處，但也有一些顯著的差異。本文比較了它們的性質(zhì)和應用，幫助讀者更全面了解這兩種化合物的異同，并了解它們在不同行業(yè)的具體用途。更多 +
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四氯化硅：未來光纖通信的關鍵之物
四氯化硅是一種獨特的化學物質(zhì)，具有廣泛的應用前景。在半導體、光纖等領域，四氯化硅發(fā)揮著重要的作用，對高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。然而，其生產(chǎn)和使用需要注意安全和環(huán)境保護。通過加強技術研發(fā)、環(huán)境保護和國際合作，我們可以進一步挖掘四氯化硅的潛力，為未來的技術和工業(yè)發(fā)展創(chuàng)造更多的價值。更多 +
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氣體在半導體外延中起到的作用
外延生長本質(zhì)上是一個化學反應過程。用于硅外延生長的主要氣體源是氫和氯硅烷，例如四氯化硅（SiCl4）、三氯氫硅（SiHCl3）和二氯硅烷（SiH2Cl2）。此外，硅烷經(jīng)常被用作氣體源以降低生長溫度。氣源的選擇主要取決于外延層的生長條件和規(guī)格，其中生長溫度是選擇氣源的最重要因素。硅外延層的生長速率和生長溫度之間的關系。 顯示了兩個不同的增長區(qū)域。在低溫區(qū)域（區(qū)域A）中，硅外延層的生長速率與溫度成指數(shù)關系，這意味著它們由表面反應控制；在高溫范圍（區(qū)域B），生長速率與溫度幾乎沒有直接關系，表明它們受質(zhì)量傳輸更多 +
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四氯化硅氫還原法制取高純硅的化學原理
工業(yè)粗硅氯化生產(chǎn)四氯化硅 目前，四氯化硅的工業(yè)處理工藝一般為直接氯化工藝，即工業(yè)粗硅在加熱條件下與氯直接反應生成四氯化硅。在工業(yè)上常用的不銹鋼（或石英）氯化爐中，硅鐵被裝入氯化爐。氯從氯化爐底部引入，當加熱到200~300℃時，反應開始產(chǎn)生SiCl4。化學反應如下： Si-2Cl2、SiCl4 生成的SiCl4以氣體狀態(tài)從熔爐上部轉(zhuǎn)移到電容器，以液體狀態(tài)冷卻，然后流入儲罐。 在生產(chǎn)中，氯化溫度一般控制在450～500℃，一方面可以提高生產(chǎn)率，另一方面可以保證質(zhì)量。因為溫度低時反應速度慢，副產(chǎn)物S更多 +
