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半導體產業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于它的化學穩(wěn)定性極 強，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產技術。就目前 而言，CF4更多 +
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武漢高芯科技有限公司與我司達成合作
武漢高芯科技有限公司, 是武漢高德紅外股份有限公司的全資子公司，是國內規(guī)模最大、技術最先進、產品線最完整的紅外熱成像芯片技術與解決方案提供商。公司成立于2013年4月，擁有全球領先的、完全自主可控的制冷式、非制冷式探測器生產線及系統(tǒng)研發(fā)能力，是國家認定的集成電路生產企業(yè)。公司產品及解決方案可廣泛應用于國防安全、測溫檢測、安全監(jiān)控、個人視覺、智能交通、智能家居，等多個領域。 在行業(yè)內已持有多項專利證書，與此同時“紅外熱成像”技術也取得一定的成績，目前正在研發(fā)制冷紅更多 +
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國網(wǎng)甘肅省電力公司檢修公司
國網(wǎng)甘肅省電力公司檢修公司,位于蘭州市七里河區(qū)建蘭路358號,主要提供220千伏及以上電網(wǎng)工程的建設及管理業(yè)務,220千伏及以上電網(wǎng)生產運行,維護,檢修,試驗與技術改造等業(yè)務,與電網(wǎng)建設,運行與檢修。 現(xiàn)階段變電檢修公司較多檢修工作為六氟化硫斷路器補氣檢修工作。六氟化硫具有卓越的電絕緣性和滅弧特性，相同條件下，其絕緣能力為空氣、氮氣的2.5倍以上，滅弧能力為空氣的100倍。六氟化硫的熔點為－50.8℃，可作為－45－0℃溫度范圍內的特殊制冷劑，又因其耐熱性好，是一種穩(wěn)定的高溫熱載體更多 +
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氦-3在低溫制冷領域的使用
He-3的一同性質引起低溫物理和低溫工程領域研究者的極大喜歡，其間最令人注目的是He-3在獲取1K以下低溫環(huán)境所扮演的絕無僅有的人物，而這個溫度區(qū)間正是基礎物理學等現(xiàn)代高新科學研究的重要領域。He-3具有低沸點、低密度、高比熱容、高熱導率等性質，這些性質使它成為低溫工程中極為特別的一種制冷工質，尤其是在接近絕對零度的極低溫下。 1956年，瓦爾特斯（G. K. Walters）和費爾班克斯（W. M. Fairbanks）發(fā)現(xiàn)，溫度在0.87K以下時，3He和4He混合液分紅兩個徹底不同的相，較輕更多 +
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環(huán)氧乙烷的存儲要注意什么？|紐瑞德氣體
環(huán)氧乙烷是有機化合物，化學式是C2H4O，是一種有毒的致癌物質，被用來制造殺菌劑。環(huán)氧乙烷易燃易爆，不易長途運輸，因此有激烈的地域性。 環(huán)氧乙烷的存儲要注意什么？ 環(huán)氧乙烷選用球罐貯存，球罐加制冷,貯存溫度<10度。由于環(huán)乙閃點很低且會發(fā)生自爆，冷凍貯存比較安全。 1、臥罐（壓力容器），Vg=100m3 ，內置冷卻器（夾套或內盤管式，加冷凍水），氮封。外加聚氨酯塊保溫 2、規(guī)劃壓力取供氮系統(tǒng)的最高壓力值（EO貯存加氮封不會對其純度造成影響，同時還能有用下降其發(fā)生爆炸的危險性）。 3、內置冷卻器更多 +
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六氟化硫氣體每公斤多少錢？|來紐瑞德獲取最新價格
六氟化硫氣體具有良好的電氣絕緣性能及優(yōu)異的滅弧性能。其耐電強度為同一壓力下氮氣的2.5倍，擊穿電壓是空氣的2.5倍，滅弧能力是空氣的100倍，是一種優(yōu)于空氣和油之間的新一代超高壓絕緣介質材料。 六氟化硫以其良好的絕緣性能和滅弧性能，如：斷路器、高壓變壓器、氣封閉組合電容器、高壓傳輸線、互感器等。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應用于微電子技術領域。冷凍工業(yè)作為制冷劑，制冷范圍可在-45℃～0℃之間。 電氣工業(yè)利用其很高介電強度和良好的滅電弧性能，用作高更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等更多 +
